Substrati di dischi di vetro per deposizione su film sottile di piattazza ottica critica

Substrati di dischi di vetro per deposizione su film sottile di piattazza ottica critica

Materiale

• Vetro di alta purezza: tipicamente realizzato in silice fuso (JGS1/JGS2), borosilicato o quarzo, selezionato per la sua bassa espansione termica e inertà chimica.

  • Silice fuso: Preferito per la sua eccezionale omogeneità, basso contenuto di OH e resistenza allo shock termico.

  • Borosilicato: alternativa conveniente con una moderata stabilità termica e una buona lucidità superficiale.

• Qualità della superficie: progettato con piattezza da λ/10 a λ/20 per garantire una deviazione minima per rivestimenti di precisione.

Proprietà chiave

1. Piattazza ottica: Piattazza superficiale ≤ λ/10 (a 632,8 nm), critica per la deposizione uniforme di film sottile e la riduzione al minimo della distorsione del fronte d'onda.

2. Stabilità termica: Basso coefficiente di espansione termica (ad esempio, 0,55 x 10−6/°C per la silice fusa) previene la deformazione durante processi ad alta temperatura come la CVD o lo sputtering.

3. Resistenza chimica: Inerte agli acidi, ai plasmi e ai solventi, garantendo la durata in ambienti di deposizione aggressivi.

4. Omogeneità della superficie: L'uniformità dell'indice di rifrazione (± 5 x 10−6) evita distorsioni ottiche nei film rivestiti.

5. Durabilità meccanica: Alta durezza (Mohs 5 ̊7) resistente ai graffi durante la manipolazione e la lavorazione.

Funzione

• Substrato a pellicola sottile: fornisce una base ultrapiatta e stabile per depositare rivestimenti (anti-riflettenti, dielettrici, metallici).

• Compatibilità dei processi: Compatibile con le tecniche di PVD, CVD, ALD e sputtering, garantendo un'adesione e uno spessore di film uniforme.

• Riferimento di metrologia: funge da standard di taratura per interferometri e profilizzatori di superfici grazie alla precisione della piattezza.

Applicazioni

• Fabbricazione di semiconduttori: foto-maschere, specchi per litografia EUV e dispositivi MEMS ottici.

• Industria dell'ottica: filtri rivestiti, divisori di fascio e ottiche laser che richiedono precisione a livello nanometrico.

• Ricerca e sviluppo: Nanotecnologia, fotonica e esperimenti di calcolo quantistico.

• Aerospaziale e Difesa: sensori di precisione, ottica satellitare e sistemi di guida laser.

• Dispositivi medici: Rivestimenti ottici per sistemi di imaging, endoscopi e apparecchiature diagnostiche.