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Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori

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Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori

High Clarity Optical Borosilicate Glass Substrates In Semiconductor
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Grande immagine :  Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori

Dettagli:
Luogo di origine: Cina
Marca: LONGWAY
Certificazione: ISO9001
Numero di modello: KK253122
Termini di pagamento e spedizione:
Quantità di ordine minimo: 500 pezzi
Prezzo: Negoziabile
Imballaggi particolari: carta, schiuma, cartone per condensatori elettrolitici
Termini di pagamento: D/P, T/T, Western Union
Capacità di alimentazione: 30000 pezzi al mese

Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori

descrizione
Forma: Piatto Superficie: Chiaro e trasparente
Trasmissione: > 90% Rivestimento: Disponibile
Trattamento: lucidatura Applicazione: Ottica
Evidenziare:

Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza

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Substrato di vetro ottico

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Substrati ottici nei semiconduttori



Substrati in vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nel settore dei semiconduttori


Materiale:

  • Composizione di base: Principalmente biossido di silicio (SiO₂) e triossido di boro (B₂O₃), con un contenuto minimo di alcali.

  • Produzione: Prodotto tramite fusione continua in forni rivestiti di platino per garantire estrema purezza e omogeneità. Spesso lucidato per ottenere una rugosità superficiale sub-nanometrica.

  • Additivi chiave: Precise aggiunte di allumina (Al₂O₃) per la stabilità chimica e agenti di raffinazione per eliminare bolle/impurità.

Proprietà chiave:

  1. Eccezionale chiarezza ottica: Trasmissione della luce ultra-elevata (>90%) attraverso gli spettri UV-NIR (ad esempio, 185nm-2μm), autofluorescenza minima.

  2. Bassa espansione termica (CTE): CTE estremamente basso (∼3,3 × 10⁻⁶/K a 20°C), che corrisponde ai wafer di silicio per prevenire guasti indotti da stress durante i cicli termici.

  3. Resistenza termica e chimica superiore: Resiste ai processi aggressivi dei semiconduttori:

    • Termica: Stabile fino a 500°C; resiste agli shock termici dovuti al riscaldamento/raffreddamento rapidi.

    • Chimica: Inerte ad acidi, alcali e solventi (ad esempio, sviluppatori di fotorresistenza, agenti di incisione).

  4. Elevata qualità della superficie: Levigatezza quasi atomica (<0,5 nm Ra) fondamentale per la nanolitografia e il deposito di film sottili.

  5. Bassa contaminazione ionica: Minima migrazione di ioni alcalini (Na⁺, K⁺) previene la contaminazione dei dispositivi.

  6. Stabilità meccanica: Elevato modulo di Young (∼64 GPa) garantisce la rigidità dimensionale sotto stress di lavorazione.

Funzione principale:

  • Servire come piattaforma ultra-stabile e inerte per i processi di fabbricazione dei semiconduttori.

  • Fornisce una superficie priva di difetti per la modellatura ad alta risoluzione (ad esempio, fotomaschere EUV).

  • Agisce come una finestra protettiva per sensori e ottiche in ambienti difficili.

  • Consente una trasmissione precisa della luce per sistemi di ispezione, metrologia e litografia.

Principali applicazioni nei semiconduttori:

  1. Maschere fotolitografiche: Materiale di base per maschere di fotolitografia EUV/ArF che richiedono difetti quasi nulli.

  2. Coperture MEMS e sensori: Coperchi di tenuta ermetica per sensori di pressione, rivelatori IR e dispositivi MEMS.

  3. Componenti per la movimentazione dei wafer: Piastre di supporto, finestre di ispezione e stadi di allineamento negli strumenti di lavorazione dei wafer.

  4. Packaging avanzato: Interposer e substrati per l'integrazione 2.5D/3D IC.

  5. Ottiche per apparecchiature di processo: Lenti, finestre di visualizzazione e specchi in incisori al plasma, camere CVD e strumenti laser.

  6. Metrologia e ispezione: Fondamentale per sistemi di allineamento ad alta precisione e scanner di difetti.

In sostanza: I substrati in vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza sono materiali ingegnerizzati ultra-puri e termicamente stabili, essenziali per la produzione di semiconduttori. La loro combinazione unica di trasmissione ottica quasi perfetta, espansione termica quasi nulla, inerzia chimica e planarità della superficie a livello atomico consente una precisione su scala nanometrica nella fotolitografia, protegge i componenti sensibili e garantisce l'affidabilità in ambienti di processo estremi. Questi substrati supportano direttamente la resa e le prestazioni nei nodi avanzati (ad esempio, sub-5nm), nella produzione MEMS e nel packaging di nuova generazione.


Articolo Disco di vetro, Wafer di vetro, Substrato di vetro
Materiale Vetro ottico, Vetro al quarzo, Vetro borosilicato, Vetro float, Borofloat
Tolleranza diametro +0/-0,2 mm
Tolleranza spessore +/-0,2 mm
Lavorato Tramite taglio, molatura, tempra, lucidatura
Qualità della superficie 80/50,60/40,40/20
Qualità del materiale Nessun graffio e bolle d'aria
Trasmissione >90% per la luce visibile
Smusso 0,1-0,3 mm x 45 gradi
Rivestimento superficiale Disponibile
Utilizzo Fotografia, Ottica, Sistema di illuminazione, Area industriale.


Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori 0


Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nei semiconduttori 1


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Dettagli di contatto
Shanghai Longway Special Glass Co., Ltd.

Persona di contatto: Mr. Dai

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