Dettagli:
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Forma: | Piatto | Superficie: | Chiaro e trasparente |
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Trasmissione: | > 90% | Rivestimento: | Disponibile |
Trattamento: | lucidatura | Applicazione: | Ottica |
Evidenziare: | Substrati di vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza,Substrato di vetro ottico,Substrati ottici nei semiconduttori |
Substrati in vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza nel settore dei semiconduttori
Materiale:
Composizione di base: Principalmente biossido di silicio (SiO₂) e triossido di boro (B₂O₃), con un contenuto minimo di alcali.
Produzione: Prodotto tramite fusione continua in forni rivestiti di platino per garantire estrema purezza e omogeneità. Spesso lucidato per ottenere una rugosità superficiale sub-nanometrica.
Additivi chiave: Precise aggiunte di allumina (Al₂O₃) per la stabilità chimica e agenti di raffinazione per eliminare bolle/impurità.
Proprietà chiave:
Eccezionale chiarezza ottica: Trasmissione della luce ultra-elevata (>90%) attraverso gli spettri UV-NIR (ad esempio, 185nm-2μm), autofluorescenza minima.
Bassa espansione termica (CTE): CTE estremamente basso (∼3,3 × 10⁻⁶/K a 20°C), che corrisponde ai wafer di silicio per prevenire guasti indotti da stress durante i cicli termici.
Resistenza termica e chimica superiore: Resiste ai processi aggressivi dei semiconduttori:
Termica: Stabile fino a 500°C; resiste agli shock termici dovuti al riscaldamento/raffreddamento rapidi.
Chimica: Inerte ad acidi, alcali e solventi (ad esempio, sviluppatori di fotorresistenza, agenti di incisione).
Elevata qualità della superficie: Levigatezza quasi atomica (<0,5 nm Ra) fondamentale per la nanolitografia e il deposito di film sottili.
Bassa contaminazione ionica: Minima migrazione di ioni alcalini (Na⁺, K⁺) previene la contaminazione dei dispositivi.
Stabilità meccanica: Elevato modulo di Young (∼64 GPa) garantisce la rigidità dimensionale sotto stress di lavorazione.
Funzione principale:
Servire come piattaforma ultra-stabile e inerte per i processi di fabbricazione dei semiconduttori.
Fornisce una superficie priva di difetti per la modellatura ad alta risoluzione (ad esempio, fotomaschere EUV).
Agisce come una finestra protettiva per sensori e ottiche in ambienti difficili.
Consente una trasmissione precisa della luce per sistemi di ispezione, metrologia e litografia.
Principali applicazioni nei semiconduttori:
Maschere fotolitografiche: Materiale di base per maschere di fotolitografia EUV/ArF che richiedono difetti quasi nulli.
Coperture MEMS e sensori: Coperchi di tenuta ermetica per sensori di pressione, rivelatori IR e dispositivi MEMS.
Componenti per la movimentazione dei wafer: Piastre di supporto, finestre di ispezione e stadi di allineamento negli strumenti di lavorazione dei wafer.
Packaging avanzato: Interposer e substrati per l'integrazione 2.5D/3D IC.
Ottiche per apparecchiature di processo: Lenti, finestre di visualizzazione e specchi in incisori al plasma, camere CVD e strumenti laser.
Metrologia e ispezione: Fondamentale per sistemi di allineamento ad alta precisione e scanner di difetti.
In sostanza: I substrati in vetro borosilicato ottico ad alta chiarezza sono materiali ingegnerizzati ultra-puri e termicamente stabili, essenziali per la produzione di semiconduttori. La loro combinazione unica di trasmissione ottica quasi perfetta, espansione termica quasi nulla, inerzia chimica e planarità della superficie a livello atomico consente una precisione su scala nanometrica nella fotolitografia, protegge i componenti sensibili e garantisce l'affidabilità in ambienti di processo estremi. Questi substrati supportano direttamente la resa e le prestazioni nei nodi avanzati (ad esempio, sub-5nm), nella produzione MEMS e nel packaging di nuova generazione.
Articolo | Disco di vetro, Wafer di vetro, Substrato di vetro |
Materiale | Vetro ottico, Vetro al quarzo, Vetro borosilicato, Vetro float, Borofloat |
Tolleranza diametro | +0/-0,2 mm |
Tolleranza spessore | +/-0,2 mm |
Lavorato | Tramite taglio, molatura, tempra, lucidatura |
Qualità della superficie | 80/50,60/40,40/20 |
Qualità del materiale | Nessun graffio e bolle d'aria |
Trasmissione | >90% per la luce visibile |
Smusso | 0,1-0,3 mm x 45 gradi |
Rivestimento superficiale | Disponibile |
Utilizzo | Fotografia, Ottica, Sistema di illuminazione, Area industriale. |
Persona di contatto: Mr. Dai
Telefono: +86-13764030222
Fax: 86-21-58508295